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紫外臭氧清洗機的應用范圍十分廣泛

更新時(shí)間:2022-04-28   點(diǎn)擊次數:1547次
   紫外臭氧清洗機是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤(pán)上,關(guān)上艙門(mén),設置時(shí)間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無(wú)機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。
  
  紫外臭氧清洗機的光清洗技術(shù)的應用范圍十分廣泛,在現代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍,隨著(zhù)我國工業(yè)現代化的發(fā)展,光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
  1、在LCD、OLED生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面的粘合力;
  2、印制電路板生產(chǎn)中,對銅底板,印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì),在導線(xiàn)焊接前進(jìn)行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板,當線(xiàn)距達到亞微米級時(shí),光清洗可輕易地去除在線(xiàn)距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
  3、大規模集成電路的密度越來(lái)越高,晶格的微細化越來(lái)越密,要求表面的潔凈度越來(lái)越高,光清洗可以有效地實(shí)現表面的原子清潔度,而且對芯片表面不會(huì )造成損傷。
  4、在半導體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生。
  5、在光盤(pán)的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準備,可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。