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等離子清洗機引入真空環(huán)境的兩個(gè)主要原因

更新時(shí)間:2021-07-01   點(diǎn)擊次數:1474次
  學(xué)過(guò)初中物理的人都知道,不管什么物體都是由一個(gè)一個(gè)的分子組成的,然而,分子又是由離子組成的,在宇宙世界里面,多數物體還沒(méi)在變成分子,甚至99%的東西都是以離子或者能量的形式存在。平時(shí)有紀錄片里面看到的各種星云團,實(shí)際上主要組成物質(zhì)都是離子、暗能量、暗物質(zhì)這些東西。
  當然在平時(shí)的生活中,平時(shí)眼睛看的到的物質(zhì)只有3種形態(tài),固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。當然如果借助各種儀器,就可以看到物質(zhì)其實(shí)還有很多種形態(tài),比如離子。
  等離子清洗機分為真空和非真空兩種類(lèi)型,非真空就是大氣壓,或者常壓等離子清洗機,非真空的等離子清洗機,主要用來(lái)清洗平面的物體,像手機玻璃蓋板,或者一些小范圍的清洗。
  等離子清洗機為什么需要引入真空環(huán)境,原因有很多,不過(guò)簡(jiǎn)單的來(lái)講主要有有兩個(gè)原因:
  引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會(huì )電離,在充入氣體電離產(chǎn)生等離子體之前必須達到真空環(huán)境。另外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類(lèi),控制真空室中氣體種類(lèi)對等離子處理體過(guò)程的可重復性是至關(guān)重要的。
  要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活,這些氣體中被激活的離子加速,開(kāi)始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
  在處理過(guò)程中,等離子體中被激活的分子和原子會(huì )發(fā)出紫外光,從而產(chǎn)生等離子體輝光。溫度控制系統常用于控制刻蝕速率。60-9d攝氏度溫度之間刻蝕,是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統已經(jīng)預編程并集成到等離子體系統的軟件中間。設置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復制處理過(guò)程。
  可以通過(guò)向等離子體室中引入不同氣體,改變處理過(guò)程。常用的等離子處理器體包括02、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數實(shí)驗室,基本上都使用這五種氣體單獨或者混合使用,進(jìn)行等離子體處理。
  等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘。當等離子體處理過(guò)程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物,室里面的材料是清潔,消過(guò)毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序。
  等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下形成的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕形成等離子體的裝置是在密封容器中設定2個(gè)電極形成電磁場(chǎng),用真空泵實(shí)現一定的真空度,隨之氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距跟分子或離子的自由運作距離也愈來(lái)愈長(cháng),受磁場(chǎng)的作用,發(fā)生碰撞而構成等離子體,與此同時(shí)會(huì )發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內的空間運作,并轟擊被處置物體的表面,進(jìn)而做到表層處理、清理和刻蝕的實(shí)際效果。